中製光刻機若量產恐影響ASML在中國市場的地位。(路透)
外媒報導上海愛晟納電子科技集團在中國大陸官方支持下，啟動深紫外光（DUV）微影設備生產，若成功量產可能影響ASML的銷售。法人分析，短期內，對ASML實質業績影響微乎其微，但長期來說，ASML在中國成熟製程市場的優勢將遭漸式吞噬。ASML股價連日重挫，與投資人對「壟斷地位破裂」的情緒性反應。
針對中國自製DUV量產消息對半導體產業衝擊，法人初步分析，中國自產DUV目前初期年產能僅約5台，明年可望提升至20～30台，且在技術性能、良率與可靠度上仍顯著落後ASML。
相較之下，ASML單年DUV產能高達130台，技術實力與量產規模短期內無人能及；且ASML近年中國市場營收占比已由2024年的41%降至近期約14%，短期內此事件對ASML的實質業績影響微乎其微，股價暴跌主因是投資人對「壟斷地位破裂」的情緒性反應。
不過，長期而言，法人認為ASML在中國成熟製程市場的獨占優勢將被中國本土設備漸進式吞噬，市場態勢出現結構性的變化。
法人指出，中國自產DUV的影響可分DUV使用者與DUV設備供應商兩方面分析。使用DUV製造的成熟製程（28nm以上）以及規格較不苛求細緻線寬的記憶體，如DDR4/DDR5、NAND Flash，預計基本面發生的時間點最快在2028年過後，因為2027年機台產出後仍需調校時間。
美日歐半導體設備商如Applied Materials、Lam Research、KLA及TEL等，若中國晶圓廠開始全面轉向採購國產替代設備，中國市場訂單將轉趨萎縮。
針對台灣設備廠受影響程度評估方面，法人表示，台灣半導體設備與耗材龍頭，例如光罩載具、先進封裝/CoWoS 設備、高階廠務廠商等，主要營運動能綁定台積電等大廠的先進製程（EUV/2nm/3nm）及 HBM/AI 晶片，中國國產DUV僅能用於成熟製程，完全無法觸及EUV技術領域，對台灣先進製程設備供應鏈無實質威脅。
對於成熟製程代理商則有潛在壓力，法人指出，少數以成熟製程晶圓廠如聯電、力積電，或中國晶圓廠為主要客戶的設備代理商與廠務維修業者，長線可能面臨中國客戶轉向本土設備商的訂單流失風險。
2026/07/29 12:31
轉載自聯合新聞網: https://udn.com/news/story/7251/9657900?from=udn-ch1_breaknews-1-99-news
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