台灣新聞通訊社-FT:中國大陸成功以升級DUV設備突圍 提高AI晶片產量

英國金融時報(FT)報導,中國大陸已成功藉由升級艾司摩爾(ASML)的深紫外光(DUV)微影設備,提高人工智慧(AI)晶片產量。路透

英國金融時報(FT)報導,中國大陸已成功藉由升級艾司摩爾(ASML)的深紫外光(DUV)微影設備,提高人工智慧(AI)晶片產量,凸顯中國大陸晶片製造商正設法克服出口管制。

報導引述知情人士指出,中國大陸生產智慧手機與AI晶片的晶圓廠,已強化ASML DUV微影設備的效能。美國與荷蘭的出口管制使ASML無法供應最先進DUV設備到中國大陸,迫使許多中國大陸晶圓廠依賴舊款設備,特別是 Twinscan NXT:1980i 系統,製造開發AI系統所需的7奈米晶片。

知悉相關技術的知情人士表示,中國大陸晶圓廠已從二手市場獲得關鍵零組件,包括升級版的矽晶圓機械平台模組(Stage),及有助確保晶片層疊能以更高精確度對齊的透鏡與感測器。

中國大陸晶圓廠已運用對ASML DUV設備的改進,取得提高AI晶片產能的能力。目前傳出以舊款ASML設備打造7奈米晶片生產線的業者,包括中芯國際(SMIC)與華為,但還不清楚這兩家公司是否已取得更進一步的零組件升級。

在目前的規範機制下,ASML能提供中國大陸客戶維護現有設備的工程支援,但被限制提供「對準精度」升級的服務,也被限制從事任何能提高設備「產出」(Throughput)超過1%的改動。

不過,報導引述多位知悉相關安排的知情人士指出,中國大陸晶圓廠從海外採購零組件並運往中國大陸,由第三方公司提供現場工程服務,升級現有的DUV設備。

ASML表示,該公司「完全遵守所有適用的法律與法規…嚴格在這些法律架構下運作,不支援任何能讓客戶提高設備效能至法律許可範圍之外的系統升級。」

ASML也被禁止供應極紫外光(EUV)微影設備給中國大陸,使中國大陸晶圓廠須以「多重圖案化」(Multi-patterning)技術生產先進晶片,但這種方法需要更長的機器運作時間,提高生產成本,也會降低良率。

知情人士表示,中國大陸晶圓廠已透過零組件升級,緩解部分限制,並提高AI與先進智慧手機晶片的產量。科技研調機構TechInsights本月指出,中芯國際正持續推進「多重圖案化」技術的邊界到7奈米製程以外,華為最新的麒麟9030處理器便揭露中國大陸迄今最先進的晶片製造製程。TechInsights 策略長Dan Kim指出,「中國大陸已持續能在無法和台積電或三星一般、取得最佳設備的情況下,達成驚人成就」。

中國大陸最新的晶片產線正使用ASML較新型、已配備升級版平台機制的2050i和2100i DUV設備。荷蘭政府去年9 月撤銷這兩款設備銷往中國大陸的出口許可,但當時已有大量設備完成出貨與安裝。

知情人士透露,美國商務部工業安全局(BIS)已持續調查ASML提供中國大陸客戶的支援內容,也已準備緊縮規定,禁止提供現有規範仍允許的部分維修支援,但在美國總統川普對美中貿易戰釋出休兵訊號後,目前不清楚BIS會否繼續推動這些規則修訂。BIS、中芯國際及華為均未回應FT記者的置評請求。

2025/12/19 11:21

轉載自聯合新聞網: https://udn.com/news/story/7333/9213414?from=udn-ch1_breaknews-1-99-news