台灣新聞通訊社-國內唯一半導體先進微影製程 特化廠新應材擬1月掛牌上櫃

〔記者張慧雯/台北報導〕國內唯一半導體先進微影製程特用化學廠新應材(4749),預計12月23日舉辦上櫃前業績發表會,明年1月掛牌。新應材董事長詹文雄表示,預估明年面板營收獲利與今年相當,半導體材料期待能有25%-30%的成長,2026年營運將更好。

新應材成立於2003年,以面板及半導體光學元件光阻材料之自主研發與量產實績為基礎,2018年積極轉型投入半導體先進製程,並聚焦在良率關鍵的微影(Lithography)特化材料開發,目前資本額8.22億元,2023年淨利3.18億元、每股稅後盈餘(EPS)3.91元;今年前三季淨利6.3億元、年增率達133%,EPS達6.39元,其中半導體客戶營收占比約八成並持續成長。

詹文雄指出,新應材最剛始以面板光阻產品為主,目前為台灣市佔率第二,2014年Retina材料就導入iPhone4,2018年接任董事長後,把大部份資源投入半導體材料的開發,2019年客戶要求開發Rinse(表面改質劑)材料,目前在桃園、台南、高雄都有設廠,最新的高雄廠一期已滿載,二期(2奈米)農曆年後試產、預估2026年正式量產,他也說,自2019年至今,投入半導體資本支出超過30億元、研發費用超過11億元,已超過40億元。

他表示,新應材未來將持續朝奈米級微影特化材料發展,包含即將到來的2奈米,及未來1.4奈米製程的關鍵材料,可有效提升先進微影製程終端應用良率。

詹文雄也說,半導體特化材料開發及驗證時間長,新應材擁有四大關鍵競爭優勢,包括從配方開發向上整合自建原料合成能力、建立本土材料供應鏈策略聯盟、快速回應及高學習曲線、優異的品質控管及自主設計製程技術,積極搶佔與國際材料大廠競爭的有利位置。

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2024/12/19 16:38

轉載自自由時報電子報: https://ec.ltn.com.tw/article/breakingnews/4898480