吳孟峰／核稿編輯
〔財經頻道／綜合報導〕極紫外線曝光機（EUV）對於未來幾年現代製程技術和半導體製造至關重要，然而，每個EUV設備的功率為1400千瓦，足以為一個小城市供電，EUV系統已成為當前影響環境重要電力消耗者的要角，許多人對EUV晶片製造設備也發出警告。
科技研究分析公司TechInsights認為，到2030年，所有配備EUV設備的晶圓廠每年的功耗將超過5萬4000吉瓦 （GW），這比新加坡或希臘等許多國家每年的功耗還要多。
到2030年，配備EUV掃描儀的晶圓廠數量將從目前的31座增加到59座，運行的工具數量將增加一倍左右。因此，所有已安裝的EUV系統每年將消耗6100 GW的電力，這意味著屆時將有數百台機器投入運作。
每年6100吉瓦的電力，這與盧森堡的電力消耗相當。然而，每個先進晶片的製造都需要4000多個步驟，而且晶圓廠中有數百台工具。
EUV設備約佔晶圓廠總用電量的11%，其餘為其他工具、HVAC、設施系統和冷卻設備。因此，所有配備低數值孔徑和高數值孔徑EUV 設備的晶圓廠的功耗預計將增加至5萬4000吉瓦/年。
目前的低數值孔徑EUV掃描儀需要高達1170 kW的功率，而下一代高數值孔徑工具預計每台需要高達1400kW。英特爾、美光、三星、SK海力士，以及台積電等晶圓廠安裝EUV的數量每年都在增加。
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2024/11/01 15:31
轉載自自由時報電子報: https://ec.ltn.com.tw/article/breakingnews/4849306
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