美國強硬制裁促進大陸晶片自主化。（示意圖／shutterstock達志）
市場傳出，大陸已開始量產浸潤式深紫外光（DUV）微影設備設備，今年預計生產5台，並計畫在2027年將年產量提升至20台，目標是逐步取代艾司摩爾（ASML）設備，消息一出引發市場震撼。
根據路透引述知情人士報導，大陸已開始量產自主研發DUV，象徵降低對外國技術依賴的重要一步，負責生產的企業為成立僅約三年的國營公司「上海愛晟納電子科技集團（Aishengna）」，該公司相當低調，沒有官方網站，也未公開營運資訊。
資料顯示，愛晟納於2023年8月成立，註冊資本達70億人民幣，由上海電氣控股公司及上海國際信託公司旗下子公司共同持股。知情人士指出，公司整合了上海微電子裝備集團（SMEE）與上海宇量昇科技的人才與技術，其中宇量昇去年已開始測試DUV原型機。
值得關注的是，宇量昇同時也是華為投資的半導體設備商新凱來（SiCarrier）的關係企業，招聘資訊也顯示，愛晟納與宇量昇共用上海同一辦公地址。
報導指出，首批國產DUV設備預計將交付中芯國際、華虹半導體及長鑫存儲等大陸主要晶片製造商。不過，市場分析普遍認為，短中期內尚不足以對ASML的市場地位及獲利造成實質衝擊。摩根大通分析師指出，能夠製造DUV設備，與打造可穩定支援晶片大量生產的成熟設備，是兩種不同層次的技術挑戰，關鍵仍在於良率、疊對精度、產能與長時間運作的可靠性。
此外，CNBC也分析，大陸半導體設備仍面臨不少挑戰，包括目前主要適用於較低階製程，以及設備良率仍有待提升。財經作家狄驤也表示，具備設備製造能力，不代表已擁有成熟的晶片量產能力，若無法提升生產良率，晶片製造成本與難度仍將居高不下，這也是大陸多年來雖持續傳出DUV研發突破，卻仍高度依賴西方設備的重要原因。
2026/07/29 09:37
轉載自中時新聞網: https://www.chinatimes.com/realtimenews/20260729001340-260410
Post gallery
