傳出陸國企量產DUV，衝擊美晶片股重挫。(圖/中時報系資料照)
根據路透引述《The Information》報導，中國已開始生產自主研發的浸潤式深紫外光曝光機（DUV），這種關鍵的晶片製造設備長期以來一直由荷蘭設備大廠艾司摩爾（ASML）主導。受此打擊，艾司摩爾股價聞訊重挫逾8％，拖累半導體設備類股也倒成一片。但有分析師認為市場反應過度，艾司摩爾中期獲利尚不受影響。
報導提及知情人士說法，這些設備預計將於今年交付給中國領先的晶片製造商，包括中芯國際、華宏半導體和長鑫存儲。
艾司摩爾不願對於置評請求作出回應，創下自6月8日以來的最大單日跌幅。
中國大陸這項突破可能未來將挑戰艾司摩爾在中國的市場地位，但該系統在效能和可靠性方面仍有不足，在量產前還需要進一步測試，因此目前艾司摩爾的優勢依然存在。
消息人士稱，中國大陸的DUV設備初期產量將受限制，今年料將生產約5台DUV設備，到2027年將達到約20台。
浸潤式DUV設備可以將電路圖案印刷到矽晶圓。隨著美國限制措施切斷了中國晶片廠商使用極紫外光刻 (EUV) 系統的機會後，DUV將是目前中國晶片製造商可用的最先進的光刻工具。
中國也正在開發國產EUV設備，但目前仍處於原型階段。
有鑑於美國考慮對光刻設備向中國出口和維修實施更嚴格的限制，新研發的技術可作為中國晶片製造商取得關鍵設備的替代來源。
另據Investing.com報導，儘管市場爆發恐慌情緒、點燃晶片設備股拋售潮，但各大公司分析師紛紛表示情況沒有那麼糟，因為少量設備的量產並不會立即瓦解艾司摩爾的全球設備霸主地位。
美銀證券分析師Didier Scemama認為市場反應過度，股價的疲軟是「極具吸引力的機會」，重申艾司摩爾「買入」評級和2,452歐元的目標價。他認為艾司摩爾面臨的威脅「有限」，並指出中國領先的國產晶片製造商上海微電子（SMEE）尚未展示28奈米或更低製程的大規模量產能力。
摩根大通分析師Sandeep Deshpande也認為市場反應過度。他強調，製造原型機和主導晶圓廠生產之間存在巨大差異，「生產少量浸潤式DUV與生產可用於大規模生產的設備截然不同」。
他並指出，「良率、套刻精度、產能以及數千片晶圓運作的可靠性才是關鍵所在。」他坦言，這會給艾司摩爾在中國的長期收入帶來風險，但中期獲利能力完全不受影響。
2026/07/28 12:49
轉載自中時新聞網: https://www.chinatimes.com/realtimenews/20260728002299-260410
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