應材斥資40億美元在矽谷園區打造的「設備與製程創新暨商業化」（EPIC）中心模擬示意圖，此中心將於今年營運。圖/應材提供
半導體設備暨材料大廠美商應用材料公司宣布，SCREEN 集團旗下子公司 SCREEN Semiconductor Solutions Co., Ltd.（SCREEN SPE）已加入應材的設備與製程創新暨商業化（Equipment and Process Innovation and Commercialization, EPIC）中心，成為最新的創新合作夥伴。此次合作將結合 SCREEN SPE 在晶圓清洗技術的專業能力，與應材在材料工程方面的領先地位，共同開發並優化適用於全球最先進晶片的製程解決方案。
應材表示，半導體元件日益複雜，在最先進製程節點中，精確的晶圓表面潔淨度已成為提高良率、元件效能及可靠性的關鍵。在沉積、蝕刻及材料改質等製程步驟中所產生的任何缺陷，都必須以更高的精度處理，因此，共同優化清洗解決方案成為開發新一代材料工程技術的重要基礎。
應材半導體產品事業群總裁帕布‧若傑（Prabu Raja）表示：「EPIC 中心旨在透過串聯整個半導體生態系的客戶及合作夥伴共同創新，大幅加速新一代半導體的商業化。SCREEN SPE 具備的濕式蝕刻技術及表面處理能力，與晶片製程的幾近所有步驟都緊密相關。透過 EPIC 中心整合技術，我們得以共同開發優化製程解決方案，協助客戶因應邁向下一個技術世代所面臨日益複雜的表面工程挑戰。」
SCREEN SPE 總裁岡本昭彦（Akihiko Okamoto）表示：「我們與應材長期以來技術合作緊密，很榮幸能在應材位於矽谷的全新 EPIC 中心深化合作關係；隨著元件結構越發精密、可容許的製程範圍縮小，濕式蝕刻以及清洗技術與相鄰製程步驟間的介面變得至關重要。透過在 EPIC 中心導入我們的清洗、濕式蝕刻和表面處理技術，能針對完整製程流程評估、優佳化解決方案，為客戶最先進的元件提供更高的性能、更強的可靠性。」
2026/05/28 15:26
轉載自聯合新聞網: https://udn.com/news/story/7240/9531407?from=udn-ch1_breaknews-1-99-news
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