應用材料宣布，SCREEN 集團（SCREEN Holdings Co., Ltd.；東京證券交易所代號：7753）旗下子公司 SCREEN Semiconductor Solutions Co., Ltd.（SCREEN SPE）已加入應材的設備與製程創新暨商業化（Equipment and Process Innovation and Commercialization, EPIC）中心，成為最新的創新合作夥伴。
此次合作將結合 SCREEN SPE 在晶圓清洗技術的專業能力，與應材在材料工程方面的領先地位，共同開發並優化適用於全球最先進晶片的製程解決方案。
半導體元件日益複雜，在最先進製程節點中，精確的晶圓表面潔淨度已成為提高良率、元件效能及可靠性的關鍵。在沉積、蝕刻及材料改質等製程步驟中所產生的任何缺陷，都必須以更高的精度處理，因此，共同優化清洗解決方案成為開發新一代材料工程技術的重要基礎。
結合應材在沉積、乾式蝕刻和材料改質方面的深厚專業，與 SCREEN SPE 領先業界的清洗技術、濕式蝕刻和表面處理能力，雙方將共同開發、優化端到端製程解決方案，協助晶片製造商在新一代元件實現更高的良率及更快的生產速度。
應材半導體產品事業群總裁帕布‧若傑（Prabu Raja）博士表示，EPIC 中心旨在透過串聯整個半導體生態系的客戶及合作夥伴共同創新，大幅加速新一代半導體的商業化。SCREEN SPE 具備的濕式蝕刻技術及表面處理能力，與晶片製程的幾近所有步驟都緊密相關。透過 EPIC 中心整合技術，我們得以共同開發優化製程解決方案，協助客戶因應邁向下一個技術世代所面臨日益複雜的表面工程挑戰。
SCREEN SPE 總裁岡本昭彦（Akihiko Okamoto）表示，我們與應材長期以來技術合作緊密，很榮幸能在應材位於矽谷的全新 EPIC 中心深化合作關係；隨著元件結構越發精密、可容許的製程範圍縮小，濕式蝕刻以及清洗技術與相鄰製程步驟間的介面變得至關重要。透過在 EPIC 中心導入我們的清洗、濕式蝕刻和表面處理技術，能針對完整製程流程評估、優佳化解決方案，為客戶最先進的元件提供更高的性能、更強的可靠性。
這項新的夥伴關係建立，以雙方既有的合作關係為基礎，包括在紐約州奧爾巴尼的應材「材料工程技術推動中心」（Materials Engineering Technology Accelerator, META）所進行的聯合製程研發，該中心現已設置 SCREEN SPE 的單晶圓清洗系統，支援薄膜沉積、蝕刻和離子植入等製程前後的清洗優化。在全新 EPIC 中心展開的合作，範圍與規模均進一步擴大，雙方的工程團隊能更近距離合作，因應更加廣泛的新一代製程挑戰，加快學習週期，並能與應材的研發計劃緊密整合。
應材位於矽谷的全新設備與製程創新暨商業化EPIC中心，是美國迄今在先進半導體設備研發上最大規模的投資。EPIC 中心位於應材矽谷園區，佔地超過 18 萬平方英尺，旨在大幅縮短突破性技術從早期研究到投入全面量產的商業化時程，預估可大幅縮短近半。EPIC 中心作為協作樞紐，匯集領先的晶片製造商、設備與材料供應商、研究機構，共同與應材團隊合作，加速新一代半導體技術推進。該中心按計劃將於 2026 年開始營運。
SCREEN SPE是全球半導體市場晶圓加工設備的領先製造商，依據 SCREEN 內部研究在晶圓清洗設備領域持續維持全球市佔第一並提供廣泛的半導體製造解決方案，涵蓋微影、退火及量測檢測系統。
2026/05/28 11:36
轉載自聯合新聞網: https://udn.com/news/story/7240/9530706?from=udn-ch1_breaknews-1-99-news
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