天虹副總羅偉瑞（左起）、董事長黃見駱、執行長易錦良及業務副總張富華。記者李珣瑛／攝影
因應先進封裝朝向大尺寸 Panel 化發展，台灣半導體設備廠天虹（6937）科技率先完成 310×310 mm 面板級封裝物理氣相沉積（PLP PVD）設備交機，對應 CoPoS 關鍵製程需求。更引人關注的是，該設備系統本土自製率逼近 90%，成為台灣高階半導體設備自主化的重要里程碑。
天虹指出，設備於出廠前已完成超過 1,000 片翹曲 panel 傳送測試與 300 片以上製程穩定性驗證，確保於量產環境下具備高度可靠度。製程鎖定 310×310mm Panel 正面 Ti/Cu RDL 與背面 Al/Ti/NiV/Au 背金製程，直接對應新一代面板級封裝的大尺寸與高精度需求。
除 PVD 外，天虹亦同步推出 310×310 mm PLP Descum 設備並進入客戶驗證階段，逐步建立完整的 Panel Level Packaging 製程設備能力。
在設備自主化推進下，天虹這項PLP 系列設備高度採用在地供應鏈，帶動台灣半導體設備生態系發展，並有效降低對海外高階設備的依賴。
除 PLP 領域外，天虹科技子公司輝虹科技積極布局高階光學量測設備，預計於 2026 年第1季達成 EUV Pellicle（極紫外光光罩護膜）穿透率與反射率全自動設備的之國產化目標，進一步補足國內在先進光學量產設備領域的關鍵缺口。
天虹已於 2025 年底成立日本子公司「哲虹」，作為深耕日本半導體市場的重要據點，強化在地技術服務與市場拓展能力，國際布局同步加速。
天虹科技執行長易錦良表示，2026 年是天虹技術收獲與國際布局推進的關鍵年。從PLP PVD 的成功交機到日本哲虹的成立，證明台灣設備商不僅具備高比例本土自製能力，亦能逐步與與全球頂尖技術接軌。
2026/02/04 16:22
轉載自聯合新聞網: https://udn.com/news/story/7240/9308923?from=udn-ch1_breaknews-1-99-news
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